全球光刻機壟斷巨頭阿斯麥（ASML）2026 年第三季度財報近日出爐，單季業績的小幅不及預期，完全被遠期訂單的超預期信號所覆蓋。部分客戶已開始洽談 2029 年甚至 2030 年的設備採購，台積電、三星也雙雙鎖定下一代高 NA EUV 光刻機，一場圍繞先進產能的提前搶奪戰正在上演。受此提振，阿斯麥股價逆勢上漲，半導體設備週期再度被拉長，全行業的產能焦慮仍在持續發酵。
財報數據顯示，阿斯麥第三季度淨銷售額達 116.6 億歐元，同比增長 55%；淨利潤為 49.6 億歐元，約合 55.5 億美元。儘管盈利端維持高增速，但營收規模略低於 LSEG 統計的 118.5 億歐元市場共識。
但市場對單季業績的小幅偏差幾乎忽略不計，目光全部聚焦於更長期的需求信號。阿斯麥首席執行官克裡斯托夫・富凱明確表示，部分客戶已 “表達興趣” 下達 2029 年甚至 2030 年的設備訂單，大量商務談判的時間維度已延伸至 2027 年之後。這一節奏遠超半導體行業常規的 1-2 年採購週期，本質是下游廠商為規避產能缺口的提前鎖定行為，帶有明顯的 “搶產能” 屬性。
資本市場迅速給出反饋。阿斯麥在阿姆斯特丹證券交易所股價收漲 2.8%，報 1551.60 歐元；美股盤前交易漲幅也接近 2%。對投資者而言，遠期訂單的釋放意味著半導體設備週期並未進入下行通道，而是持續向外延展，行業景氣的支撐邏輯得到進一步驗證。
在遠期需求升溫的同時，下一代核心光刻設備的採購已正式落地。阿斯麥證實，台積電與三星均在本季度做出採購高數值孔徑（High NA）極紫外（EUV）光刻機的承諾，雙雙躋身前沿設備的核心客戶陣營。
作為全球先進制程晶圓代工的標杆，台積電的設備選擇具備行業風向標意義。阿斯麥是全球唯一能量產 EUV 光刻機的企業，台積電對高 NA EUV 的採購承諾，相當於為下一代制程競賽的延續投下贊成票，印證晶圓代工週期仍處於擴張建設階段，而非進入產能出清週期。 對三星而言，鎖定高 NA EUV 同樣是戰略級動作。在先進制程賽道，光刻能力是區分 “追趕” 與 “掉隊” 的核心分界，提前卡位下一代核心設備，是避免在下一輪產能週期中被邊緣化的關鍵。兩大行業巨頭的共同選擇，清晰表明全球先進邏輯與存儲芯片的產能競賽仍在全速推進，並無停歇跡象。
需求持續高企的背後，是供給端的長期緊張。阿斯麥同步上調了 2026 年全年銷售額指引下限，從此前的 430 億 – 450 億歐元調整至 440 億 – 450 億歐元；並預計第四季度淨銷售額區間為 142 億 – 152 億歐元。
更具中長期影響的是，富凱透露，公司目前規劃的 2027 年與 2028 年產能，仍無法完全滿足客戶需求，阿斯麥正在研究進一步擴大 2028 年產能，增幅將超出此前宣佈的 30% 目標。這意味著至少未來三年內，核心半導體設備的供給稀缺將是行業常態。
這一格局正在重構半導體設備的週期邏輯。此前市場擔憂的景氣拐點並未出現，AI 算力需求將行業週期大幅拉長。投資者不再糾結于單季財報的細節偏差，轉而圍繞遠期產能稀缺進行定價。從行業本質看，當前半導體板塊的核心驅動力仍是產能焦慮，而非需求疲勞。只要設備供不應求的敘事持續，半導體設備賽道的景氣週期就難言見頂。
